【備 注】:
TG2U型光刻機主要技術參數(shù)見下表:
項目 |
參數(shù)
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適用的掩模尺寸
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a.100X100X2-3mm;b.75X75X2—3mm;c.63X63X2—3(選購);
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適用的硅片尺寸
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φ35—75mm
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光刻圖形線條
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3-4μm, 最細可達2μm
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掩模與硅片之間的相對位移范圍
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X/Y±2.5mm,(族轉(zhuǎn)) ±6°
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承片臺(硅片)繞主軸旋轉(zhuǎn)
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粗調(diào)360度,可微調(diào)
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承片工作臺綜合移動范圍
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X,Y合成φ75mm
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承片臺的球座平面至掩模板面升降
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0—7.5mm
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曝光燈源
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GCQ200W超高壓汞燈,曝光波長,300―436nm
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曝光系統(tǒng)能量不低于
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7mw
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曝光系統(tǒng)的照度均勻度在φ75mm范圍內(nèi)
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±5%
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顯微鏡的照明波長
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≈545nm
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曝光時間控制范圍
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0.1秒—99分
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雙目顯微鏡的放大倍數(shù)
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a.目鏡共二種:10X,16X;b.平視場物鏡共三種:6X,9X,15X;c.合成放大倍率:60X—240X;
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真空接觸壓力
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≥0.7kgf
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裝箱尺寸
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1000X850X980mm(2只)
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裝箱重量
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200kg
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注:用戶有何特殊要求可協(xié)商。
注意:如果產(chǎn)品升級恕不另行通知,網(wǎng)站及資料會同步升級,并以實物為準!
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